记者从中国石化集团南京化学工业有限公司获悉，近日该公司超高纯化学品攻关取得里程碑式突破——G4级电子级硫酸装置连续稳定运行满15天，标志着该产品实现工业化稳定量产。

　　作为半导体制造中用量最大的湿电子化学品之一，电子级硫酸被誉为芯片的“清洁剂”，主要用于去除晶圆表面的金属杂质、有机残留和颗粒污染物。按照SEMI国际标准，G4级产品要求金属离子杂质含量低于百亿分之一（10ppt），相当于在1000个标准泳池的水中仅允许存在1克杂质。当前，国内半导体用G4/G5级电子级硫酸长期依赖进口。随着国内晶圆产能扩张，预计2026年我国半导体用G4/G5级电子级硫酸需求量将突破25万吨，自主保供迫在眉睫。

　　自2023年项目获批以来，南化公司研发团队直面科研成果工程化放大难、原料路线调整复杂、超痕量杂质检测体系空白等挑战，通过持续优化工艺参数与长周期运行试验，成功破解了微量杂质管控、分离稳定性及洁净灌装防污染等行业难题。目前，产品已通过SGS权威检测认证，且具备向G5级迭代的技术潜力。

　　以此为契机，南化公司已系统提炼形成成套工艺管控方案，并将成熟经验同步应用于电子级硝酸、电子级盐酸的工艺包开发，正加速构建拥有完全自主知识产权的湿电子化学品技术体系，为后续多品类协同产业化奠定坚实基础。

　　内容转自：南京日报/紫金山新闻记者 徐宁 通讯员 张兴梅 郑瑞